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查特杜瓦瓶在工業(yè)生產(chǎn)和分析實(shí)驗(yàn)中的典型應(yīng)用

點(diǎn)擊次數(shù):1015 更新時(shí)間:2020-06-12

1 激光切割,查特杜瓦瓶配套激光切割機(jī),為激光切割機(jī)供應(yīng)的切割碳鋼用的氧氣,一般使用杜瓦瓶?jī)?chǔ)存大量的液氧,純度高于99.5%,還有切割不銹鋼使用的高純氮?dú)猓枰褂貌樘囟磐咂績(jī)?chǔ)存大量的液氮,再通過(guò)汽化器汽化使用。一般出口壓力要求1-2mpa的壓力。激光切割機(jī)是大量消耗液氮液氧的設(shè)備,需要根據(jù)氣體消耗量選用適合的杜瓦瓶。

 

2 液質(zhì)聯(lián)用儀,查特杜瓦瓶配套液質(zhì)聯(lián)用儀,一般選用180MP 或者200MP 型,儀器使用霧化氣和干燥氣,壓力一般0.8mpa左右。根據(jù)儀器使用頻率和消耗量選用不同型號(hào)的查特杜瓦瓶,另外使用液氬作為碰撞氣的也有選用杜瓦瓶充裝液體使用的。

 

3 真空鍍膜機(jī),查特杜瓦瓶為真空鍍膜機(jī)提供所需的氮?dú)鉀_入,排除內(nèi)部氧氣。讓真空鍍膜機(jī)內(nèi)部氮?dú)鈮毫Ρ3衷?/span>0.5mpa左右。需要持續(xù)吹入0.5mpa左右的氮?dú)?。真空鍍膜機(jī)氮?dú)?/span>

為真空鍍膜機(jī)大量供應(yīng)氮?dú)?,并保持穩(wěn)定壓力,應(yīng)使用常規(guī)的液態(tài)杜瓦瓶供應(yīng),杜瓦瓶?jī)?nèi)部裝有液態(tài)氮?dú)猓渲闷到y(tǒng)及減壓裝置,調(diào)壓出來(lái)氣體符合真空鍍膜機(jī)的使用,符合大量應(yīng)用氮?dú)獠⒎€(wěn)定壓力和流量的氮?dú)鈿怏w應(yīng)用。一般杜瓦瓶選用180MP規(guī)格或者200MP規(guī)格,出口安裝氮?dú)鉁p壓閥,使用氣體量大的客戶(hù)可選用MC450MP。

 

4 核磁共振儀 低壓罐,核磁共振儀是需要使用230LP型低壓補(bǔ)液罐來(lái)作為低壓補(bǔ)液,補(bǔ)充低壓液氮使用的,壓力可達(dá)到22psi,給核磁共振儀補(bǔ)充液氮,配置有沖液軟管,一罐液體可夠核磁共振儀沖液幾次使用的。

 

5 程序降溫儀 程序降溫儀的降溫需要查特杜瓦瓶的低壓杜瓦瓶230LP型補(bǔ)液型杜瓦瓶配套使用,為其做補(bǔ)液罐體,保證程序降溫儀內(nèi)部的超低溫運(yùn)行,壓力不超過(guò)22psi。低壓補(bǔ)液是低消耗和平穩(wěn)供給的結(jié)合產(chǎn)品。230LP型查特杜瓦瓶是低壓補(bǔ)液的典型應(yīng)用產(chǎn)品

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